重生科技强国
作者:疯子C | 分类:科幻 | 字数:77.9万
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第82章 光刻机与光刻胶
【物品:低端光刻机】看书溂
【经验值:/(可升级)】
【优化点:250.8】
第二天,蔡晋睡醒之后,来到小工厂,查看光刻机的时候,数据已经发生了变化。
“系统,升级!”蔡晋毫不犹豫地选择了升级。
唰!
一道微光闪烁!
顿时,这台光刻机就发生了变化。
至少看起来,顺眼了很多。
相关的信息,蔡晋也就了解了。
【物品:中低端光刻机】
【经验值:0/】
【优化点:250.8】
这台光刻机,一下子从可以生产300nm,一下子提升到了150nm芯片水平。
不过,150nm芯片,依旧属于低端芯片,根本没有任何值得喜悦的。
蔡晋继续让光刻机运行着。
随后,他开始组装生产光刻胶的设备。
芯片发展有一个叫做摩尔定律的说法,每18~24个月,性能就会翻一倍。
而保持摩尔定律【生命力】的基石之一就是光刻技术,每18~24个月,利用光刻工艺在集成电路板上所能形成最小图案的特征尺寸将缩小30%。
光刻胶,正是光刻工艺的核心材料,它可以与光线发生反应,让芯片材料上出现所需的精密电路图案。
光刻胶的质量和性能,会直接影响到集成电路制造过程中的优良率。
一句话概括就是,光刻出的电路图案越精密,就代表着芯片性能越好。
而中国在半导体光刻胶方面,简直是惨不忍睹,国产市场占有率仅仅1%!
中国每年光刻胶的产量,已经达到了惊人的七万吨。
但这些产量只不过是一些初级产品罢了。
至于中高端产品,全部需要从境外购买,技术完全被境外封锁。
一种年使用量超过十万吨的重要耗材,居然全靠进口,说起来何等心酸。
想想,目前中国曝光机和光刻机数量庞大,就算遭到对手的打击,一时半刻没办法进口这两种机台,国内相关行业也还撑得住。
但是光刻胶不一样,那是每天都要大量消耗的耗材,一旦被断供,整个行业就会没有耗材可用。
投资上千亿建起来的生产线,一旦光刻胶被别人卡脖子,就必须停产。
想想有多可怕!
而统治这个行业的,是美国陶氏化学,杜邦,亨斯迈,霓虹jsr,信越,东京应化学,富士,住友,tok,三菱化学,旭化成,日立化成,新日铁化学,太阳油墨,再加上韩国东进化学,lg化学,意大利莫顿等等。
那种被卡脖子的可能性,不是没有,相反有着很大的可能性。
最鲜明的例子,就是韩国。
自从2019年双方产生巨大矛盾,日本经济省宣布将对出口韩国的半导体材料加强审查与管控,其中包括氟聚酰亚胺、光刻胶和高纯度氟化氢,这一招直接干趴下韩国的半导体产业,只能乖乖认怂。
而这一幕,在未来是有可能出现在中国身上的。
没有高端芯片用,忍忍就是,用性能差一些芯片代替。可是如果没有光刻胶的话,那连中低端芯片都会出现问题,到时候连中低端芯片都没有。
所以虽然光刻胶全球市场也就不到百亿美元,但是蔡晋却要解决它。
解决了光刻机和光刻胶,那么中国半导体也就基本上解决了面临的困境。
而且蔡晋已经决定了,直接把光刻机和光刻胶做成白菜价,搞死那些王八蛋。
不久前,ASML高管嘲讽中国:即使给你们图纸,你们也造不出光刻机!
想想蔡晋心中就来去。
今日你高高在上,他日让你破产沮丧哭嚎!
......
连续几天。
蔡晋都将时间和精力放在光刻机、光刻胶上。
在昨天的时候,经过两次升级,已经掌握了光刻胶生产技术,可以生产出各个型号的光刻胶。
半导体光刻胶、PCB光刻胶、LCD光刻胶和其他光刻胶,全部都攻克。
而今天,光刻机也差不多可以升级了。
将手放在光刻机上。
【物品:中低端光刻机】
【经验值:/(可升级)】
【优化点:260】
“升级!”蔡晋毫不犹豫地选择了升级。
唰!
一道微光闪烁。
顿时这台光刻机就发生了明显的变化,连外观都在变化。
【物品:中端光刻机】
【经验值:0/】
【优化点:260】
与此同时,蔡晋对于这台中端光刻机,也有了了解。
激光器、光束矫正器、能量控制器、光束形状设置、遮光器、能量探测器、掩膜版.....全部都达到了全国最前沿的技术水平。
另外,掩膜台的运动控制精度达到纳米级,物镜、量台、曝光台、内部封闭框架、减振器等物,也都是目前国内最先进的产品。
而光刻机的光源,也不再是之前的深紫外光,而是成了13.5nm的软X射线,也就是极紫外光。
最重要的是,它直接实现了,60nm芯片的生产制造!
而要知道,整个中国能做60nm芯片的企业,不超过三家,而且全是在2018年下半年才刚刚突破的技术,还是在实验室里!
现在,顶多算是小规模适量产。
可是如今,他却拥有了一台可以量产60nm芯片的光刻机。
这么一台光刻机,可以造上数百片12寸的圆晶!
可以说,这是一个突破,了不起的突破,如果把这里发生的事情,宣布出去,足以震惊整个中国,乃至于京城都要被惊动!
毕竟中国在半导体行业,被压了太多年了!
从上个世纪以来,就一直跟在西方国家的屁股后面跑,说是向人家乞讨技术也不为过。
中国太想在半导体领域实现逆袭,让半导体领域不再被卡脖子。
不过,这还不是蔡晋的目标!
如果止步于此,顶多算是勉强够用而已,还谈不上先进!
他要搞出,比ASML的High-NAEUA光刻机更先进的顶端光刻机。
High-NAEUA光刻机的最小工业节点到了22nm~7nm,而他的目标,是22nm~1nm!
然后,将各种型号的光刻机,都卖出白菜价,搞死这些高高在上的巨头们!
反正他搞出的光刻机,再怎么样,也会比这些巨头生产光刻机要便宜得多!
而且,他也不靠光刻机、光刻胶赚钱吃饭,他真正赚钱的,是仿生机器人,是全固态锂电池!